| 透射电镜用薄膜样品的制备方法 | |
| 马爱华, 于洪波, 刘实, 郑华, 张滨 and 王隆保 | |
| 2005-11-16 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本发明公开了一种透射电镜用薄膜样品的制备方法,具体步骤为：1)利用磁 控溅射方法镀制金属或合金膜,磁控溅射以合金靶为负极,衬底为正极,背底真 空度2.0～8.0×10-5Pa；气氛为Ar气氛,真空度6.5～7.5×10-1Pa；电流0.5～2A； 电压100～300V；2)在金属或合金膜上冲出圆片；3)将圆片进行双喷减薄或者 离子减薄制得电镜观察用的样品。本发明采用磁控溅射的方法,可以获得均匀、 致密、易剥离的金属或合金膜,衬底上镀膜的厚度在5～9μm之间,可以直接将 磁控溅射镀膜与双喷减薄或者离子减薄... |
| 公开日期 | 2005-11-16 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN1696334 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/66367]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马爱华, 于洪波, 刘实, 郑华, 张滨 and 王隆保. 透射电镜用薄膜样品的制备方法. 2005-11-16. |
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