PST薄膜溅射条件优化及介电性能评价：一种可供可调器件选择的材料

	PST薄膜溅射条件优化及介电性能评价：一种可供可调器件选择的材料
	雷秀云 ; 99 ; 99 ; 99 ; 王根水 ; 董显林
刊名	J. Am. Ceram. Soc.
	2011-12-27
ISSN号	1551-2916
其他题名	Optimization of PST Thin Films Grown by Sputtering and Complete Dielectric Performance Evaluation: An Alternative Material for Tunable Devices
通讯作者	Denis R¨¦miens
学科主题	材料化学
收录类别	SCI收录
公开日期	2012-07-05
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/1276]
专题	上海硅酸盐研究所_无机功能材料与器件重点实验室_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	雷秀云,99,99,等. PST薄膜溅射条件优化及介电性能评价：一种可供可调器件选择的材料[J]. J. Am. Ceram. Soc.,2011.
APA	雷秀云,99,99,99,王根水,&董显林.(2011).PST薄膜溅射条件优化及介电性能评价：一种可供可调器件选择的材料.J. Am. Ceram. Soc..
MLA	雷秀云,et al."PST薄膜溅射条件优化及介电性能评价：一种可供可调器件选择的材料".J. Am. Ceram. Soc. (2011).