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	硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
	张楷亮 ; 宋志棠 ; 刘波 ; 刘卫丽 ; 封松林
	2004
获奖类别	鉴定
获奖等级	无
中文摘要	该发明涉及一种用于硫系化合物相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液及利用化学机械抛光制备纳电子器件相变存储器的方法。该CMP纳米抛光液包含有氧化剂、螯合剂、pH调节剂、纳米研磨料、抗蚀剂、表面活性剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境。该发明主要用于制造相变存储器关键材料GexSbyTe(1-x-y)的CMP,利用上述抛光液采用化学机械抛光方法去除多余的相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)制备纳电子器件相变存储器,方法简单易行。
语种	中文
内容类型	成果
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/113747]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_成果
推荐引用方式 GB/T 7714	张楷亮,宋志棠,刘波,等. 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用. 鉴定:无. 2004.

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