多孔TiO2/Al/SiO2 纳米复合结构的紫外光吸收特性研究

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	多孔TiO2/Al/SiO2 纳米复合结构的紫外光吸收特性研究
	刘维民
刊名	物理学报
	2008
卷号	57 期号:1 页码:586-591
关键词	多孔 TiO 薄膜阳极氧化紫外光吸收 porous TiO2 thin film anodic oxidation UV absorption
ISSN号	1000-3290
通讯作者	王成伟
中文摘要	在 SiO2 玻璃衬底上用脉冲激光沉积(PLD)技术 ,分别沉积 Ti 和 TiΠ Al 膜 ,经电化学阳极氧化成功制备了多孔TiO2Π SiO2 和 TiO2Π AlΠ SiO2 纳米复合结构. 其中 TiO2 薄膜上的微孔阵列高度有序 ,分布均匀. 实验研究了 Al 过渡层对多孔 TiO2 薄膜光吸收特性的影响. 结果表明:无Al 过渡层的多孔 TiO2 薄膜其紫外吸收峰在270 nm处 ,且峰强不随阳极氧化工艺参数调节;而有Al 过渡层的多孔 TiO2 薄膜其紫外吸收峰红移至293 nm处 ,峰强和峰形不仅受阳极氧化电压调节而且受Al 过渡层厚度的影响也很敏感. 进一步分析了两种结构在吸收边附近的光跃迁特性. 这些结果对基于多孔 TiO 的光伏电池和紫外光传感器的应用研究非常有益.
学科主题	材料科学与物理化学
收录类别	SCI ; CSCD
资助信息	国家自然科学基金(批准号:10774121);西北师范大学三期科技创新工程项目(批准号:NWNU2KJCXGC203222);青年教师科研基金(批准号:NWNU2QN205227)资助的课题
语种	中文
公开日期	2013-03-28
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/2766]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	刘维民. 多孔TiO2/Al/SiO2 纳米复合结构的紫外光吸收特性研究[J]. 物理学报,2008,57(1):586-591.
APA	刘维民.(2008).多孔TiO2/Al/SiO2 纳米复合结构的紫外光吸收特性研究.物理学报,57(1),586-591.
MLA	刘维民."多孔TiO2/Al/SiO2 纳米复合结构的紫外光吸收特性研究".物理学报 57.1(2008):586-591.