| 用等离子体增强的化学汽相沉积的方法制备高质量ZnO薄膜 | |
| 李炳生 ; 刘益春 ; 支壮志 ; 申德振 ; 吕有明 ; 张吉英 ; 范希武 ; 孔祥贵 | |
| 2001 | |
| 会议地点 | 中国厦门 |
| 关键词 | 氧化锌薄膜 PECVD 二乙基锌 氮化 |
| 中文摘要 | 氧化锌作为一种多功能材料,在很多领域已有广泛的应用。近年它作为新的紫外发光材料而日益受到重视。各种各样的技术手段用于这种材料的制备,在本文中,引入金属有机源——二乙基锌和二氧化碳,用等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)的方法制备氧化锌薄膜,在低温下,在(100)硅衬底上外延生长得到了高质量的(002)择优取向的ZnO薄膜。在硅衬底上外延生长氧化锌薄膜,最重要的一点是去掉硅表面的氧化层并避免再氧化问题。用这种方法可以用等离子体清洗去掉氧化层,并用氨等离子体氮化硅表面,经过钝化的表面特别稳定,可以保护硅的表面,避免了再氧化的问题,为生长高质量的ZnO 薄膜创造了条件。在文中,讨论了氮化的机制。在优化的条件下,氧化锌样品的XRD衍射谱表明制备的ZnO薄膜具有(002)完全择优取向的六角密堆结构。XRD 的半高宽只有0.2°,并且观察到了典型的激子吸收线,说明了成膜质量非常高。通过光致发光的实验,室温下得到了激子发射光谱。从光致发光谱上可以看到,有一个强紫外波段的激子发射带,伴随着一个微弱的深中心缺陷的发光。这说明氧化锌非常接近化学比。用这种方法的另一个优点是制备温度低,这样可以减少界面扩散,减少热应力,提高膜的质量。从成膜的工艺和各种测量结果来看,等离子体增强化学气相沉积的方法是一种很有前途的方法。 |
| 收录类别 | 中国会议 |
| 会议录出版者 | 重庆仪表材料研究所、中国仪器仪表学会仪表材料学会、《功能材料》编辑部、国家仪表功能材料工程技术研究中心 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32748]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出_会议论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李炳生,刘益春,支壮志,等. 用等离子体增强的化学汽相沉积的方法制备高质量ZnO薄膜[C]. 见:. 中国厦门. |
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