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	Nanocrystalline silicon films prepared by laser-induced crystallization
	Fu, GS[1]; Yu, W[2]; Li, SQ[3]; Hou, HH[4]; Peng, YC[5]; Han, L[6]
刊名	CHINESE PHYSICS
	2003
卷号	12期号:1页码:75-78
关键词	laser annealing crystallization nanocrystalline silicon
ISSN号	1009-1963
URL标识	查看原文
收录类别	SCI(E)
WOS记录号	WOS:000181024500013
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6002602
专题	河北大学
作者单位	1.Hebei Univ, Coll Phys Sci & Technol, Baoding 071002, Peoples R China. 2.Hebei Univ, Coll Elect & Informat Engn, Baoding 071002, Peoples R China.
推荐引用方式 GB/T 7714	Fu, GS[1],Yu, W[2],Li, SQ[3],et al. Nanocrystalline silicon films prepared by laser-induced crystallization[J]. CHINESE PHYSICS,2003,12(1):75-78.
APA	Fu, GS[1],Yu, W[2],Li, SQ[3],Hou, HH[4],Peng, YC[5],&Han, L[6].(2003).Nanocrystalline silicon films prepared by laser-induced crystallization.CHINESE PHYSICS,12(1),75-78.
MLA	Fu, GS[1],et al."Nanocrystalline silicon films prepared by laser-induced crystallization".CHINESE PHYSICS 12.1(2003):75-78.

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