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	CF3+etching silicon surface: A molecular dynamics study
	Zhao, C.; Lu, X.; He, P.; Zhang, P.; Sun, W.; Zhang, J.; Chen, F.; Gou, F.
	2012
URL标识	查看原文
内容类型	会议论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5990087
专题	贵州大学
作者单位	1.[1] Institute of Plasma Surface Interactions, Guizhou University, Guiyang 550025, China 2.[2] College of Science, Guizhou University, Guiyang 550025, China 3.[3] FOM Institute for Plasma Physics, 3439 MN Nieuwegein, Netherlands 4.[4] Key Lab of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Chengdu 610064, China
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhao, C.,Lu, X.,He, P.,et al. CF3+etching silicon surface: A molecular dynamics study[C]. 见:.

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