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	Deposition and etching of SiF2 on Si surface: MD study
	Chen, X.; Lu, X.; He, P.; Zhao, C.; Sun, W.; Zhang, P.; Gou, F.
	2012
会议日期	AUG 23-27, 2010
会议地点	Beijing, PEOPLES R CHINA
会议录	18th International Vacuum Congress (IVC)
URL标识	查看原文
内容类型	会议论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5977312
专题	贵州大学
作者单位	1.[1]Minist Educ, Key Lab Radiat Phys & Technol, Chengdu 610064, Peoples R China 2.[2]Guizhou Univ, Inst Plasma Surface Interact, Guiyang, Peoples R China 3.[3]Guizhou Univ, Coll sci, Guiyang, Peoples R China 4.[4]FOM Inst Plasma Phys, Nieuwegein, Netherlands
推荐引用方式 GB/T 7714	Chen, X.,Lu, X.,He, P.,et al. Deposition and etching of SiF2 on Si surface: MD study[C]. 见:. Beijing, PEOPLES R CHINA. AUG 23-27, 2010.

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