| 硫掺杂纳米金刚石薄膜的图形化生长 | |
| 赵庆勋[1]; 石利忠[2]; 王永杰[3]; 刘保亭[4]; 葛大勇[5] | |
| 刊名 | 电子元件与材料
 |
| 2008 | |
| 卷号 | 27期号:12页码:57-59 |
| 关键词 | 复合材料 金刚石薄膜 硫掺杂 化学气相沉积 图形化 光刻 |
| ISSN号 | 1001-2028 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.3969/j.issn.1001-2028.2008.12.018 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | 中文核心期刊要目总览CSCD |
| WOS记录号 | WOS: |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5967534 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 1.河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 2.华北电力大学,数理学院,河北,保定,071003 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵庆勋[1],石利忠[2],王永杰[3],等. 硫掺杂纳米金刚石薄膜的图形化生长[J]. 电子元件与材料,2008,27(12):57-59. |
| APA | 赵庆勋[1],石利忠[2],王永杰[3],刘保亭[4],&葛大勇[5].(2008).硫掺杂纳米金刚石薄膜的图形化生长.电子元件与材料,27(12),57-59. |
| MLA | 赵庆勋[1],et al."硫掺杂纳米金刚石薄膜的图形化生长".电子元件与材料 27.12(2008):57-59. |
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