射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点 | |
纠智先; 李强 | |
刊名 | 武汉工业学院学报 |
2006 | |
卷号 | 25期号:3页码:109-111 |
关键词 | 脉冲激光沉积 薄膜 射频 等离子体 |
ISSN号 | 1009-4881 |
DOI | 10.3969/j.issn.1009-4881.2006.03.029 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5596830 |
专题 | 武汉轻工大学 |
作者单位 | 武汉工业学院数理科学系 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 纠智先,李强. 射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点[J]. 武汉工业学院学报,2006,25(3):109-111. |
APA | 纠智先,&李强.(2006).射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点.武汉工业学院学报,25(3),109-111. |
MLA | 纠智先,et al."射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点".武汉工业学院学报 25.3(2006):109-111. |
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