抗反射的激光匀光装置 | |
朱晓鹏; 陈武辉; 赵志英 | |
2018-06-08 | |
著作权人 | 北京大族天成半导体技术有限公司 |
专利号 | CN207473218U |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
其他题名 | 抗反射的激光匀光装置 |
英文摘要 | 本实用新型在使用匀光管对光纤输出的激光束进行匀化的结构中,增加了反射结构,将被激光照射的材料上的大部分反射光再次反射回匀光管,在提高了激光利用效率的同时,减少了反射造成的影响,实现了结构的长期稳定性,提供了一种结构简单、容易实现、低成本的抗反射激光匀光结构。 |
公开日期 | 2018-06-08 |
申请日期 | 2017-11-17 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39726] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 北京大族天成半导体技术有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱晓鹏,陈武辉,赵志英. 抗反射的激光匀光装置. CN207473218U. 2018-06-08. |
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