| 成像系统 | |
| 达尼洛·孔代洛; 西蒙·普林斯; 大卫·哈吉斯; 杰弗里·本迪克; 克里斯多佛·西格尔 | |
| 2019-05-31 | |
| 著作权人 | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 专利号 | CN208921603U |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 实用新型 |
| 其他题名 | 成像系统 |
| 英文摘要 | 本申请公开了成像系统，其可包括：激光二极管光源；物镜，其被定位成将来自光源的聚焦跟踪光束引导到样品容器中的定位上并且接收从样品反射的聚焦跟踪光束；以及图像传感器，其包括多个像素定位以接收从样品容器中的定位反射的聚焦跟踪光束，其中反射聚焦跟踪光束在图像传感器上产生光斑。一些示例还可以包括激光二极管光源，该激光二极管光源可以在高于对于在放大式自发辐射(“ASE”)模式下的操作的功率水平但低于对于单模操作的功率水平的功率水平下操作。 |
| 公开日期 | 2019-05-31 |
| 申请日期 | 2018-03-07 |
| 状态 | 授权 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38536]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 达尼洛·孔代洛,西蒙·普林斯,大卫·哈吉斯,等. 成像系统. CN208921603U. 2019-05-31. |
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