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	一种交联阴离子膜及其制备方法和应用; 一种交联阴离子膜及其制备方法和应用
	张华民 ; 曲超 ; 张凤祥 ; 邱艳玲
	2011
专利国别	中文
专利号	CN201010563791.0
专利类型	发明
关键词	物理化学
权利人	中国科学院大连化学物理研究所 ; 大连融科储能技术发展有限公司
中文摘要	本发明公开了一种高性能交联型阴离子膜及其制备方法，所述阴离子膜由含苄基卤基团的聚合物通过双胍或多胍交联制备而成，该类膜可应用于燃料电池和酸性电解质液流储能电池中。膜结构更加紧密，形变、含水率较低，离子选择性好，由于正电荷分布更加分散，热稳定性，耐氧化稳定性更好。双胍或多胍交联阴离子膜的强碱性，能更好地阻隔全钒液流储能电池中钒离子的迁移，同时交联能抑制溶胀，能进一步抑制钒离子的迁移，提高电池的库仑效率至99％以上，表现出高稳定性、高电导率和低溶胀率。
是否PCT专利	待填写
学科主题	物理化学
公开日期	2012-05-30
申请日期	2010-11-29
语种	中文
资助信息	中国科学院大连化学物理研究所;辽宁石油化工大学
专利证书号	待填写
专利申请号	CN201010563791.0
专利代理	马驰
内容类型	专利
源URL	[http://159.226.238.44/handle/321008/116374]
专题	大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张华民,曲超,张凤祥,等. 一种交联阴离子膜及其制备方法和应用, 一种交联阴离子膜及其制备方法和应用. CN201010563791.0. 2011-01-01.

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