| MPCVD法制备多孔碳膜用于高倍率电化学双电层电容 | |
| 冯晨辰; 吕嘉欣; 吴爱民; 黄昊 | |
| 2015 | |
| 会议名称 | TFC`15全国薄膜技术学术研讨会 |
| 会议日期 | 2015-08-21 |
| 会议地点 | 武汉 |
| 关键词 | 多孔碳 双电层电容器 高倍率性能 大电流充放电 |
| 页码 | 17-17 |
| 会议录 | TFC`15全国薄膜技术学术研讨会
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| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4415329 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 1.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,辽宁大连116024 2.大连理工大学材料科学与工程学院,辽宁大连116024 3.大连理工大学常州研究院,江苏常州213164 4.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,辽宁大连116024 5.大连理工大学材料科学与工程学院,辽宁大连116024 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯晨辰,吕嘉欣,吴爱民,等. MPCVD法制备多孔碳膜用于高倍率电化学双电层电容[C]. 见:TFC`15全国薄膜技术学术研讨会. 武汉. 2015-08-21. |
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