高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响

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	高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响
	郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂
刊名	材料研究学报
	1999-02-25
期号	1 页码:73-75
关键词	脉冲电流延伸率位错
中文摘要	采用高密度单脉冲电流（SHCDE）处理H62，针对其力学性能的变化，从理论上计算了处理后所产生的温升，分析了高密度脉冲电流对材料的影响所导致的电致塑性．
公开日期	2012-04-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27535]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂. 高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响[J]. 材料研究学报,1999(1):73-75.
APA	郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂.(1999).高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响.材料研究学报(1),73-75.
MLA	郭晓楠,沈以赴,周亦胄,何冠虎,周本濂."高密度单脉冲电流对H62铜带力学性能的影响".材料研究学报 .1(1999):73-75.