Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films
Wei JS(魏劲松) ; Dun AH(顿爱欢) ; Ma XQ(马晓晴) ; Gan FX(干福熹)
刊名materials chemistry and physics
2011
期号131页码:406
收录类别SCI
公开日期2012-04-25
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10493]  
专题上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
Wei JS,Dun AH,Ma XQ,et al. Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films[J]. materials chemistry and physics,2011(131):406.
APA Wei JS,Dun AH,Ma XQ,&Gan FX.(2011).Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films.materials chemistry and physics(131),406.
MLA Wei JS,et al."Laser-induced grayscale patterning in TeOx thin films".materials chemistry and physics .131(2011):406.
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