工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响

	工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响
	汪海波 ; 俞沁聪 ; 刘卫丽 ; 宋志棠 ; 张楷亮
刊名	功能材料与器件学报
	2010
期号	03
关键词	可靠性辐射总剂量效应 X射线 γ射线
ISSN号	1007-4252
中文摘要	系统研究了抛光液的pH值、抛光压力和相对转速等因素对蓝宝石抛光速率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:随pH值(9-12)的升高,抛光速率增加,表面粗糙度先降低后升高;随抛光压力和相对转速的增加,抛光速率先增加后降低,表面粗糙度先降低后升高。研究分析认为:pH值因影响在蓝宝石表面形成的水化层从而影响抛光速率和粗糙度;与抛光压力和相对转速相关的Hersey系数对抛光效果影响很大,当Hersey系数为24时,蓝宝石的抛光速率和表面平整度均达到最佳。
语种	中文
公开日期	2012-01-06
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/52577]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	汪海波,俞沁聪,刘卫丽,等. 工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响[J]. 功能材料与器件学报,2010(03).
APA	汪海波,俞沁聪,刘卫丽,宋志棠,&张楷亮.(2010).工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响.功能材料与器件学报(03).
MLA	汪海波,et al."工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响".功能材料与器件学报 .03(2010).