分布反馈量子级联激光器的光栅制备

	分布反馈量子级联激光器的光栅制备
	李耀耀 ; 徐刚毅 ; 张永刚 ; 李爱珍 ; 魏林
刊名	功能材料与器件学报
	2009
期号	05
关键词	基因芯片幽门螺杆菌克拉霉素耐药
ISSN号	1007-4252
中文摘要	利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制。在量子级联激光器的InGaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB。
语种	中文
公开日期	2012-01-06
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51974]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	李耀耀,徐刚毅,张永刚,等. 分布反馈量子级联激光器的光栅制备[J]. 功能材料与器件学报,2009(05).
APA	李耀耀,徐刚毅,张永刚,李爱珍,&魏林.(2009).分布反馈量子级联激光器的光栅制备.功能材料与器件学报(05).
MLA	李耀耀,et al."分布反馈量子级联激光器的光栅制备".功能材料与器件学报 .05(2009).