一种测试加速度,压力和温度的集成硅芯片及制作方法
李昕欣 ; 王权
2009-10-07
专利国别中国
专利号CN101551403
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种测试加速度,压力和温度的集成硅芯片及制作方法,其 特征是同一套微加工工艺将热电堆的加速度传感器、压力传感器和温度传感 器制作在一个芯片上。采用热对流式的加速度传感器,是用多晶硅电阻作为 加热器,用两对金属(铝、钛钨金等)和P型多晶硅或N型构成热电堆检测由 加速度引起的密封空腔内的温度差,来检测加速度。用低应力的氮化硅薄膜 作为压力传感器芯片的核心结构层,多晶硅薄膜形成力敏电阻条,在LPCVD 炉中用TEOS栓形成真空参考腔,制作出高精度的绝对压力传感器。同时用多 晶硅热敏电阻来检测温度变化,
是否PCT专利
公开日期2009-10-07
申请日期2009-05-22
语种中文
专利申请号200910051766.1
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49079]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
李昕欣,王权. 一种测试加速度,压力和温度的集成硅芯片及制作方法. CN101551403. 2009-10-07.
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