用于相变存储器的M-Sb-Se相变薄膜材料
凌云 ; 龚岳峰 ; 宋志棠 ; 封松林
2009-07-22
专利国别中国
专利号CN101488558
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明揭示了一种用于相变存储器的M-Sb-Se相变薄膜材料,其组分为(SbxSe1-x)1-yMy, y为0.2%-15%原子比,x为50%-95%原子比,掺杂元素M为钨元素、铝元素、铟元素、银元 素、铜元素、镍元素、镓元素、钛元素、锡元素、氧元素、及氮元素中的一者或两者。本发 明所提供的M-Sb-Se相变薄膜材料比常用的Ge2Sb2Te5材料具有更快的
是否PCT专利
公开日期2009-07-22
申请日期2009-02-25
语种中文
专利申请号200910046633.5
专利代理余明伟
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49041]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
凌云,龚岳峰,宋志棠,等. 用于相变存储器的M-Sb-Se相变薄膜材料. CN101488558. 2009-07-22.
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