一种厚膜氮化镓与衬底蓝宝石自剥离的实现方法
王新中 ; 于广辉 ; 林朝通 ; 曹明霞 ; 卢海峰 ; 李晓良 ; 巩航 ; 齐鸣 ; 李爱珍
2009-07-22
专利国别中国
专利号CN101488475
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种厚膜氮化镓与衬底蓝宝石自剥离的实现方法,其特征在 于采用了带有钝化层超大纳米孔径GaN作为厚膜的模板。在生长厚膜GaN之 前,在(0001)面蓝宝石衬底上,沉积一层GaN薄膜,然后在其上蒸发一层金属 Al,再采用电化学的方法生成多孔状阳极氧化铝(AAO),然后将其刻蚀成 多孔状,接着往多孔GaN孔中沉积一层介质SiO2或SiNx薄层,这样就在GaN 模板上得到了带有钝化层超大纳米孔径的结构,经过清洗后,最后把这个多 孔衬底置于HVPE反应腔内生长G
是否PCT专利
公开日期2009-07-22
申请日期2009-02-20
语种中文
专利申请号200910046376.5
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49031]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
王新中,于广辉,林朝通,等. 一种厚膜氮化镓与衬底蓝宝石自剥离的实现方法. CN101488475. 2009-07-22.
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