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	高管团队背景特征、高管激励与企业R＆D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析
	何霞[1,2]; 苏晓华[2]
	2012
卷号	32期号:[db:dc_citation_issue]页码:100
关键词	高管团队 高层梯队理论 TMT背景特征 高管激励 企业R&D投入
DOI	[db:dc_identifier_doi]
URL标识	查看原文
WOS记录号	[db:dc_identifier_wosid]
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3327021
专题	暨南大学
作者单位	1.[1]广州番禺职业技术学院,广东广州511483 2.[2]暨南大学,广东广州510632
推荐引用方式 GB/T 7714	何霞[1,2],苏晓华[2]. 高管团队背景特征、高管激励与企业R＆D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析[J],2012,32([db:dc_citation_issue]):100.
APA	何霞[1,2],&苏晓华[2].(2012).高管团队背景特征、高管激励与企业R＆D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析.,32([db:dc_citation_issue]),100.
MLA	何霞[1,2],et al."高管团队背景特征、高管激励与企业R＆D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析".32.[db:dc_citation_issue](2012):100.

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