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	Effect of deposition parameters on properties of TiO2films deposited by reactive magnetron sputtering
	Wang, Bo[1,2]; Wei, Shicheng[2]; Guo, Lei[2]; Wang, Yujiang[2]; Liang, Yi[2]; Xu, Binshi[2]; Pan, Fusheng[1]; Tang, Aitao[1]; Chen, Xianhua[1]
	2017
卷号	43页码:10991-10998
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3079874
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	Wang, Bo[1,2],Wei, Shicheng[2],Guo, Lei[2],et al. Effect of deposition parameters on properties of TiO2films deposited by reactive magnetron sputtering[J],2017,43:10991-10998.
APA	Wang, Bo[1,2].,Wei, Shicheng[2].,Guo, Lei[2].,Wang, Yujiang[2].,Liang, Yi[2].,...&Chen, Xianhua[1].(2017).Effect of deposition parameters on properties of TiO2films deposited by reactive magnetron sputtering.,43,10991-10998.
MLA	Wang, Bo[1,2],et al."Effect of deposition parameters on properties of TiO2films deposited by reactive magnetron sputtering".43(2017):10991-10998.

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