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	Al-Si共晶合金中频磁场下初生硅相析出机制研究 Investigation on Primary Silicon Precipitation Mechanism in Al-Si Eutectic Alloy under Electromagnetic Field
	Zhang Zhiqing 1 , Li Qiulin 2 , Chen Dandan 1 , Liu Wei 3 , Liu Qing 1 [1,2,3]
	2011
卷号	0页码:322-328
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2975661
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhang Zhiqing 1 , Li Qiulin 2 , Chen Dandan 1 , Liu Wei 3 , Liu Qing 1 [1,2,3]. Al-Si共晶合金中频磁场下初生硅相析出机制研究 Investigation on Primary Silicon Precipitation Mechanism in Al-Si Eutectic Alloy under Electromagnetic Field[J],2011,0:322-328.
APA	Zhang Zhiqing 1 , Li Qiulin 2 , Chen Dandan 1 , Liu Wei 3 , Liu Qing 1 [1,2,3].(2011).Al-Si共晶合金中频磁场下初生硅相析出机制研究 Investigation on Primary Silicon Precipitation Mechanism in Al-Si Eutectic Alloy under Electromagnetic Field.,0,322-328.
MLA	Zhang Zhiqing 1 , Li Qiulin 2 , Chen Dandan 1 , Liu Wei 3 , Liu Qing 1 [1,2,3]."Al-Si共晶合金中频磁场下初生硅相析出机制研究 Investigation on Primary Silicon Precipitation Mechanism in Al-Si Eutectic Alloy under Electromagnetic Field".0(2011):322-328.

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