基于SiGe-0.13 μm X波段高效率功率放大器
刘昱; 崔凯; 李志强; 张海英
刊名微电子学与计算机
2017-08-05
文献子类期刊论文
英文摘要

基于IBMSiGe0.13μmBiCMOS工艺,设计了一个工作在超过BVceo的SiGeHBTsclassE 功放,在产生高的输出功率的同时又保持了比较高的功率附加效率.利用SiGe堆叠 E 类结构来增加整体的电压摆幅,每个管子都是工作在安全操作区域,同时电压是超过 BVceo的,进一步加大了功放的输出功率.设 计 了 级 间 匹配网络,既保持了输出级比较高的击穿电压,又兼顾了功放的性能.在10GHz工作频率下,功放的峰值 PAE 达到了47.4%,同时其输出功率达到21.43dBm.

语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/18044]  
专题微电子研究所_健康电子研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘昱,崔凯,李志强,等. 基于SiGe-0.13 μm X波段高效率功率放大器[J]. 微电子学与计算机,2017.
APA 刘昱,崔凯,李志强,&张海英.(2017).基于SiGe-0.13 μm X波段高效率功率放大器.微电子学与计算机.
MLA 刘昱,et al."基于SiGe-0.13 μm X波段高效率功率放大器".微电子学与计算机 (2017).
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