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	A novel anti-shock silicon etching apparatus for solving diaphragm release problems
	Ye, TC; Xu, QX; Jing, YP; Ou, Y; Chen, DP; Shi, SL
	2010
内容类型	外文期刊
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/8990]
专题	微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
推荐引用方式 GB/T 7714	Ye, TC,Xu, QX,Jing, YP,et al. A novel anti-shock silicon etching apparatus for solving diaphragm release problems. 2010.

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