基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术

	基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术
	李世光; 孙裕文
刊名	光学学报
	2016-05-16
文献子类	期刊论文
英文摘要	随着半导体制造步入1x nm技术节点时代，调焦调平系统的测量精度达到几十纳米。在纳米尺度范围内，IC工艺对调焦调平测量精度的影响很大。本文提出一种基于光学三角法和莫尔条纹法的调焦调平测量技术，利用空间分光系统将两组位相差π的莫尔条纹同时成像到两个探测器上，通过归一化差分的方法计算硅片高度，可有效降低调焦调平测量技术对IC工艺，尤其是IC工艺导致的光强变化的敏感性。实验结果表明，基于该技术的调焦调平系统测量重复性精度（3σ）为8nm，线性精度（3σ）为18nm。当测量光强变化达90%时，该测量技术引起的线性精度变化为15nm（3σ），光强变化在65%时，线性精度变化小于1nm（3σ）。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://159.226.55.106/handle/172511/16179]
专题	微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
推荐引用方式 GB/T 7714	李世光,孙裕文. 基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术[J]. 光学学报,2016.
APA	李世光,&孙裕文.(2016).基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术.光学学报.
MLA	李世光,et al."基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术".光学学报 (2016).