高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用

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	高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用
	谢常青; 朱效立; 施百龄
刊名	微纳电子技术
	2015-04-01
英文摘要	针对单级衍射光栅的应用需求，在元件研制中对X射线光刻的关键技术进行优化，克服了曝光中图形畸变的问题，并利用同步辐射光源对单级衍射光栅进行了高效率的批量复制。通过对X射线光谱成分进行模拟，在X射线束线中插入铬反射镜和氮化硅滤片，得到了能量范围0.5-2keV大面积均匀光斑；根据具体情况对掩模图形进行+5nm到+35nm之间的校正，克服了X射线曝光图形扩展的问题；通过控制掩模与基片软接触产生的莫尔条纹，使曝光间隙降到3μm以下，保证了稳定的曝光结果与高分辨率；所制备的多种单级衍射光栅图形结构复杂，具有纳米尺度特征线宽，剖面陡直，满足单级衍射光栅设计对纳米加工技术的苛刻要求。
语种	中文
公开日期	2016-05-24
内容类型	期刊论文
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/14925]
专题	微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	谢常青,朱效立,施百龄. 高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用[J]. 微纳电子技术,2015.
APA	谢常青,朱效立,&施百龄.(2015).高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用.微纳电子技术.
MLA	谢常青,et al."高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用".微纳电子技术 (2015).