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	Resist hardening by fluorocarbon plasma for electron-beam and optical mix-and-match lithography
	Hai, CH; Chan, VWC; Chan, PCH
	2001
内容类型	外文期刊
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/8818]
专题	微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年）
推荐引用方式 GB/T 7714	Hai, CH,Chan, VWC,Chan, PCH. Resist hardening by fluorocarbon plasma for electron-beam and optical mix-and-match lithography. 2001.

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