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	Numerical simulation of polysilicon deposition characteristics in chemical vapor deposition process
	An, Lisha; Yang, Zhe; Liu, Yingwen; Gao, Bo
刊名	Thermal Science
	2018
卷号	22页码:719-727
关键词	Chemical vapor deposition Deposition characteristics Polycrystalline silicon
ISSN号	0354-9836
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2831201
专题	西安交通大学
推荐引用方式 GB/T 7714	An, Lisha,Yang, Zhe,Liu, Yingwen,et al. Numerical simulation of polysilicon deposition characteristics in chemical vapor deposition process[J]. Thermal Science,2018,22:719-727.
APA	An, Lisha,Yang, Zhe,Liu, Yingwen,&Gao, Bo.(2018).Numerical simulation of polysilicon deposition characteristics in chemical vapor deposition process.Thermal Science,22,719-727.
MLA	An, Lisha,et al."Numerical simulation of polysilicon deposition characteristics in chemical vapor deposition process".Thermal Science 22(2018):719-727.

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