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	一种利用电容变化检测刻蚀侧壁粗糙的方法
	张立 ; 何军 ; 张大成 ; 黄贤 ; 赵丹淇 ; 王玮 ; 杨芳 ; 田大宇 ; 刘鹏 ; 李婷 ; 罗葵
	2014
英文摘要	本发明公开了一种利用电容变化检测刻蚀侧壁粗糙的方法，仅在功能区域进行刻蚀工艺前添加上述工艺流程，避免增加功能器件设计的复杂；利用检测区域电容变化反应功能区域侧壁粗糙，减小了小尺寸带来的误差，同时避免裂断面等对器件结构有损害的操作，实现对刻蚀结构的无损检测；检测区域数目由功能区域刻蚀窗口大小种类决定，实现了更加精准地检测不同条件下的刻蚀侧壁粗糙目的，同时实现对不同刻蚀条件下侧壁粗糙的一步检测。本发明设计的工艺流程简单，各工序均为成熟技术，工艺难度较低，实现简便，易于操作。; 0
语种	中文
内容类型	其他
源URL	[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/187059]
专题	软件与微电子学院
推荐引用方式 GB/T 7714	张立,何军,张大成,等. 一种利用电容变化检测刻蚀侧壁粗糙的方法. 2014-01-01.

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