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	石墨烯的光氯化反应及其图形化
	吴迪 ; 李波 ; 周琳 ; 彭海琳 ; 刘忠范
	2011
关键词	石墨烯 氯化反应 半导体器件 化学修饰 能带工程 半金属 光化学反应 介孔结构 共价修饰 氯自由基
英文摘要	石墨烯因其优异的结构和性能,在电子器件领域有着广泛的应用前景。由于石墨烯是零带隙的半金属,要实现石墨烯在半导体器件中的应用,就必须对石墨烯的能带进行调控。石墨烯的化学修饰是打开带隙或掺杂的重要的途径之一,成为石墨烯能带工程的重要组成部分。; 0
语种	中文
出处	知网
内容类型	其他
源URL	[http://hdl.handle.net/20.500.11897/79400]
专题	化学与分子工程学院
推荐引用方式 GB/T 7714	吴迪,李波,周琳,等. 石墨烯的光氯化反应及其图形化. 2011-01-01.

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