可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体

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	可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体
	程光华; 张国栋; 赵卫
	2018-09-07
著作权人	中国科学院西安光学精密机械研究所
专利号	CN201811044919.5
国家	中国
文献子类	发明专利
产权排序	1
英文摘要	本发明涉及激光器的可饱和吸收体，针对现有可饱和吸收体导热性差、稳定性低、光谱响应窄、制备工艺复杂、工作寿命短、生产成本高等问题，而提供一种可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体。其中，可饱和吸收体制备方法，包括以下步骤：1)将二维纳米材料分散于分散液中，进行超声处理，得到二维纳米材料分散液；2)将多孔玻璃放置于二维纳米材料分散液中，在超声条件下进行筛选吸附，形成多孔玻璃与二维纳米材料复合体；3)将多孔玻璃与二维纳米材料复合体取出，干燥；4)对经过干燥处理后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体退火；5)对退火后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行切割，抛光，得到可饱和吸收体。
公开日期	2019-01-08
申请日期	2018-09-07
语种	中文
状态	申请中
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/31775]
专题	西安光学精密机械研究所_瞬态光学技术国家重点实验室
作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	程光华,张国栋,赵卫. 可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体. CN201811044919.5. 2018-09-07.