slot波导包覆层对功率密度的影响 | |
安俊明; 宋世娇 | |
刊名 | 半导体光电 |
2010 | |
卷号 | 31期号:5页码:705-708 |
中文摘要 | 理论模拟研究了硅基绝缘(SOI)的slot波导中槽内限制功率与slot波导的结构参数以及包覆层折射率的关系.结果表明,如果包覆层的折射率偏离衬底SiO2的折射率,相同参数下的slot波导的传输损耗大于包覆层为SiO2的结构的传输损耗.分析表明,如果包层与衬底折射率不同,限制的光功率会从slot缝隙中渗透到折射率较高的衬底或者包层中,从而引起能量的损耗.理论模拟得到了在缝隙宽度为0.12μm的情况下, slot波导槽内最大的光功率限制为28.54%,这个值包含了纳米线波导与slot波导直接耦合产生的耦合损耗以及slot波导自身的传输损耗 |
学科主题 | 光电子学 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 国家"863"计划项目,国家自然科学基金项目 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-08-16 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21522] |
专题 | 半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 安俊明,宋世娇. slot波导包覆层对功率密度的影响[J]. 半导体光电,2010,31(5):705-708. |
APA | 安俊明,&宋世娇.(2010).slot波导包覆层对功率密度的影响.半导体光电,31(5),705-708. |
MLA | 安俊明,et al."slot波导包覆层对功率密度的影响".半导体光电 31.5(2010):705-708. |
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