CORC  > 上海大学
杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响
蔡剑辉[1]; 陈治西[2]; 刘晨鹤[3]; 张栋梁[4]; 刘强[5]; 俞文杰[6]; 刘新科[7]; 马忠权[8]
刊名电子器件
2018
卷号41页码:1367-1371
关键词MoS2背栅场效应晶体管 杂质吸附 不同的扫描条件 回滞窗口 亚阈值斜率
ISSN号1005-9490
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2168033
专题上海大学
作者单位1.[1]上海大学物理系,上海200444
2.中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海200050[2]上海大学物理系,上海200444
3.中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海200050[3]中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050[4]中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050[5]中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050[6]中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050[7]深圳大学材料学院,深圳市特种功能材料重点实验室,广东 深圳518060[8]上海大学物理系,上海,200444
推荐引用方式
GB/T 7714
蔡剑辉[1],陈治西[2],刘晨鹤[3],等. 杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响[J]. 电子器件,2018,41:1367-1371.
APA 蔡剑辉[1].,陈治西[2].,刘晨鹤[3].,张栋梁[4].,刘强[5].,...&马忠权[8].(2018).杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响.电子器件,41,1367-1371.
MLA 蔡剑辉[1],et al."杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响".电子器件 41(2018):1367-1371.
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