表面处理工艺对基板表面电化学迁移的影响 | |
涂家川[1,2]; 李国元[1] 邬博义[2] | |
刊名 | 《腐蚀与防护》 |
2018 | |
卷号 | 39页码:515-520 |
关键词 | 印制电路板 表面处理 电化学迁移(ECM) 化学镍金(ENIG) 水滴试验 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2166747 |
专题 | 华南理工大学 |
作者单位 | [1]华南理工大学电子与信息学院,广州510640 [2]伟创力制造有限公司,珠海519125 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 涂家川[1,2],李国元[1] 邬博义[2]. 表面处理工艺对基板表面电化学迁移的影响[J]. 《腐蚀与防护》,2018,39:515-520. |
APA | 涂家川[1,2],&李国元[1] 邬博义[2].(2018).表面处理工艺对基板表面电化学迁移的影响.《腐蚀与防护》,39,515-520. |
MLA | 涂家川[1,2],et al."表面处理工艺对基板表面电化学迁移的影响".《腐蚀与防护》 39(2018):515-520. |
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