Si基大面积碲镉汞分子束外延研究 | |
陈 路; 傅祥良; 巫 艳; 吴 俊; 王伟强; 魏青竹; 王元樟; 何 力 | |
刊名 | 激光与红外 |
2006 | |
卷号 | 36期号:11 |
公开日期 | 2011-10-21 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/2482] |
专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈 路,傅祥良,巫 艳,等. Si基大面积碲镉汞分子束外延研究[J]. 激光与红外,2006,36(11). |
APA | 陈 路.,傅祥良.,巫 艳.,吴 俊.,王伟强.,...&何 力.(2006).Si基大面积碲镉汞分子束外延研究.激光与红外,36(11). |
MLA | 陈 路,et al."Si基大面积碲镉汞分子束外延研究".激光与红外 36.11(2006). |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论