基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法

	基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法
	张恒; 李思坤; 王向朝
	2016
中文摘要	极紫外光刻被认为是最有前景的下一代光刻技术。光刻仿真是极紫外光刻机相关技术研发的重要工具。掩模仿真是光刻仿真的重要组成部分,通过掩模仿真可得到掩模衍射场分布,进而研究掩模衍射对成像质量的影响,最终得到可以预期实际效果的、优化后的光刻工艺参数。常用的掩模衍射谱仿真方法可分为严格电磁场方法和快速方法两大类。严格方法如波导法、时域有限差分法等通过求解麦克斯韦方程组得到掩模衍射谱分布,计算精
会议录	第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/27477]
专题	上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室
作者单位	中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张恒,李思坤,王向朝. 基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法[C]. 见:.