硼掺杂多晶金刚石薄膜的电学特性 | |
张仿清; 谢二庆; 扬斌; 吴全忠; 季亚英; 张南屏; 杨映虎; 陈光华; 蒋翔六 | |
1992-10-26 | |
会议名称 | 首届中国功能材料及其应用学术会议 |
关键词 | 金刚石薄膜 电学性能 化学性能 光电特性 空穴迁移率 光敏器件 大功率器件 紫外区 光学透明性 范德堡法 |
页码 | 2 |
中文摘要 | 1前言金刚石具有非常优异的机械、光,电、化学性能,如:极高的硬度; 宽的带隙; 高的热导率; 高的电子、空穴迁移率; 光学透明性; 低的介电常数。特别是其优异的电学性能,可望成为未来新的电子材料,在电子工业中得到广泛应用。如:高温、高频,大功率器件; 以金刚石为材料的光敏器件可工作在紫外区和极高的电压下。本文对气相合成硼掺杂金刚石薄膜的电学性能及光电特性进行了测试并作了初步的讨论。 |
会议录 | 首届中国功能材料及其应用学术会议论文集 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://202.201.7.4/handle/262010/107939] |
专题 | 物理科学与技术学院_会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张仿清,谢二庆,扬斌,等. 硼掺杂多晶金刚石薄膜的电学特性[C]. 见:首届中国功能材料及其应用学术会议. |
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