溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响

	溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响
	马紫微; 苏玉荣; 谢毅柱; 赵海廷; 刘利新; 李健; 谢二庆
刊名	材料导报
	2012-05-25
期号	10 页码:16-18+22
关键词	HfO2薄膜溅射法光学性能光学带隙
其他题名	溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响
中文摘要	HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102898]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	马紫微,苏玉荣,谢毅柱,等. 溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响[J]. 材料导报,2012(10):16-18+22.
APA	马紫微.,苏玉荣.,谢毅柱.,赵海廷.,刘利新.,...&谢二庆.(2012).溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响.材料导报(10),16-18+22.
MLA	马紫微,et al."溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响".材料导报 .10(2012):16-18+22.