纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

	纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究
	闫鹏勋; 吴志国; 徐建伟; 张玉娟; 李鑫; 张伟伟
刊名	人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals
	2004-12-30
卷号	33 期号:6 页码:974-977
关键词	纳米结构氮化钛薄膜等离子体
ISSN号	1000985X
其他题名	Investigation on the nano-structure TiN thin film prepared by filtered cathodic arc plasma
中文摘要	利用自行研制的磁过滤等离子体设备 ,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征。利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果显示 :沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑 ,致密而无缺陷 ;硬度远高于粗晶TiN的硬度 ;TiN晶粒尺寸在 3 0～ 5 0nm ;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102478]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	闫鹏勋,吴志国,徐建伟,等. 纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究[J]. 人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals,2004,33(6):974-977.
APA	闫鹏勋,吴志国,徐建伟,张玉娟,李鑫,&张伟伟.(2004).纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究.人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals,33(6),974-977.
MLA	闫鹏勋,et al."纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究".人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals 33.6(2004):974-977.