负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响

	负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响
	段玲珑; 吴卫东; 何智兵; 许华; 唐永建; 徐金城
刊名	强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams
	2008-03-15
卷号	20 期号:3 页码:505-508
关键词	Ti薄膜磁控溅射负偏压沉积速率表面形貌 DC magnetron sputtering Negative bias Titanium film
ISSN号	10014322
其他题名	Effects of negative bias on structure and surface topography of Titanium films deposited by DC magnetron sputtering
通讯作者	Duan, L.-L. (dlldly_0@sina.com)
中文摘要	采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜,研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响。随着偏压逐渐增大,Ti膜沉积速率分三个阶段变化:0~-40 V之间沉积速率基本不变;-40~-80 V之间沉积速率迅速降低;超过-80 V后沉积速率随偏压的下降速度又放缓。Ti膜密度随偏压增加而增大,负偏压为-119.1 V时开始饱和并趋于块体Ti材密度。加负偏压能够抑制Ti膜的柱状生长方式;偏压可以改善Ti膜的表面形貌,对于40 W和100 W的溅射功率,负偏压分别在-100 V和-80 V左右时制备出表面光洁性能较佳的Ti膜。
学科主题	542.3 Titanium and Alloys;741.3 Optical Devices and Systems;813.1 Coating Techniques;931.2 Physical Properties of Gases, Liquids and Solids
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101038]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	段玲珑,吴卫东,何智兵,等. 负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响[J]. 强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams,2008,20(3):505-508.
APA	段玲珑,吴卫东,何智兵,许华,唐永建,&徐金城.(2008).负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响.强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams,20(3),505-508.
MLA	段玲珑,et al."负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响".强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams 20.3(2008):505-508.