二氧化硅薄膜的制备及应用

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	二氧化硅薄膜的制备及应用
	王永珍; 龚国权; 崔敬忠
刊名	真空与低温
	2003-12-30
期号	4 页码:6
关键词	二氧化硅薄膜制备方法综述
中文摘要	二氧化硅薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上广泛关注的功能材料。论述了有关二氧化硅薄膜的制备方法,相应性质及其应用前景。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/100403]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	王永珍,龚国权,崔敬忠. 二氧化硅薄膜的制备及应用[J]. 真空与低温,2003(4):6.
APA	王永珍,龚国权,&崔敬忠.(2003).二氧化硅薄膜的制备及应用.真空与低温(4),6.
MLA	王永珍,et al."二氧化硅薄膜的制备及应用".真空与低温 .4(2003):6.