聚乙二醇类表面活性剂对硅表面无电沉积Ag膜光滑作用研究 | |
佟浩; 乔志清; 景粉宁; 李梦柯; 王春明 | |
刊名 | 电化学 |
2003-03-25 | |
期号 | 1页码:81-86 |
关键词 | 无电沉积银 硅(100) 聚乙二醇 开路电位~时间谱技术 原子力显微镜 |
中文摘要 | 应用原子力显微镜技术及开路电位~时间谱技术,研究了非离子表面活性剂聚乙二醇2000,6000,20000对硅(100)表面无电沉积银膜的光滑作用.实验表明硅(100)表面无电沉积银的光滑程度以及镀层的质量均随聚乙二醇聚合度的增加而变好. |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/100359] |
专题 | 化学化工学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 佟浩,乔志清,景粉宁,等. 聚乙二醇类表面活性剂对硅表面无电沉积Ag膜光滑作用研究[J]. 电化学,2003(1):81-86. |
APA | 佟浩,乔志清,景粉宁,李梦柯,&王春明.(2003).聚乙二醇类表面活性剂对硅表面无电沉积Ag膜光滑作用研究.电化学(1),81-86. |
MLA | 佟浩,et al."聚乙二醇类表面活性剂对硅表面无电沉积Ag膜光滑作用研究".电化学 .1(2003):81-86. |
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