p型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究

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	p型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究
	佟浩; 王春明; 力虎林
刊名	南京航空航天大学学报/Nanjing Hangkong Hangtian Daxue Xuebao/Journal of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics
	2007-06-15
卷号	39 期号:3 页码:343-348
关键词	化学镀 p型Si NiP薄膜光催化性能研究 Anodic stripping sweep votammetry (ASV) Atomic force microcopy (AFM) Electroless NiP films P Si Photocatalytic activity Property study
ISSN号	10052615
其他题名	Electroless deposition of NiP film on p-Si(100) and its property study
通讯作者	Tong, H. (tongh@nuaa.edu.cn)
中文摘要	采用化学镀的方法在组成为NiSO4.6H2O+NaH2PO2.H2O+Na3C6H5O7.H2O的化学镀液中与Pd活化的p型Si(100)表面制备了NiP薄膜,利用X射线能量色散谱(EDX)对NiP薄膜的成分进行了表征。用原子力显微镜(AFM)和电化学阳极溶出(ASV)的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究。结果表明,在表面覆盖度Γ达到4.03×10-8mol/cm2时,表面覆盖达到饱和,此时颗粒大小均一,并分布均匀。以NiP/Si为工作电极,在0.5 mol/L1的H2SO4溶液中分别在光照和暗态条件下对不同化学镀时间的NiP薄膜进行阴极极化扫描,结果表明,在Si表...
学科主题	804 Chemical Products Generally;801 Chemistry;712.1.1 Single Element Semiconducting Materials;702.1 Electric Batteries;641.1 Thermodynamics;547.1 Precious Metals;539.3.2 Electroless Plating
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/97809]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	佟浩,王春明,力虎林. p型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究[J]. 南京航空航天大学学报/Nanjing Hangkong Hangtian Daxue Xuebao/Journal of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics,2007,39(3):343-348.
APA	佟浩,王春明,&力虎林.(2007).p型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究.南京航空航天大学学报/Nanjing Hangkong Hangtian Daxue Xuebao/Journal of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics,39(3),343-348.
MLA	佟浩,et al."p型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究".南京航空航天大学学报/Nanjing Hangkong Hangtian Daxue Xuebao/Journal of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics 39.3(2007):343-348.