基底诱导聚合物相分离制备高度有序图形的研究 | |
白桦; 巫国平; 熊玉卿; 张莉; 郭云; 常梦洁; 张浩力 | |
刊名 | 真空与低温
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2009-06-15 | |
期号 | 2页码:76-80 |
关键词 | 聚合物共混物 纳米技术 微接触印刷 相分离 图案化 |
中文摘要 | 基底诱导聚合物相分离是一种制备高度有序图形化高分子薄膜的新技术。研究考察了PS/PVP共混物在图案化基底上的相分离图形化的影响因素。实验证明,聚合物薄膜的膜厚对图形的质量有着重要的影响。薄膜厚度过薄(小于100nm)反浸润现象导致薄膜不连续;薄膜很厚(大于300nm)时基底的诱导效应减弱。而在合适的膜厚情况下(约140nm),基底图案对聚合物膜的表面形态有最好的诱导效果。另一个关键因素是基底图案的周期,当周期与聚合物本征颗粒的尺寸相近时图形化效果最好。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/97476] ![]() |
专题 | 化学化工学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 白桦,巫国平,熊玉卿,等. 基底诱导聚合物相分离制备高度有序图形的研究[J]. 真空与低温,2009(2):76-80. |
APA | 白桦.,巫国平.,熊玉卿.,张莉.,郭云.,...&张浩力.(2009).基底诱导聚合物相分离制备高度有序图形的研究.真空与低温(2),76-80. |
MLA | 白桦,et al."基底诱导聚合物相分离制备高度有序图形的研究".真空与低温 .2(2009):76-80. |
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