| 题名 | 基于紫外纳米软压印工艺的陷光结构研究; Light Trapping Structures Based On UV Soft Nanoimprint Lithography |
| 作者 | 白彦强 |
| 答辩日期 | 2016-12-22 ; 2016-05-26 |
| 导师 | 朱锦锋 |
| 关键词 | 纳米压印 超级吸收体 光学传感器 nanoimprint technology perfect absorber optical sensor |
| 英文摘要 | 摘要 随着科技的进步，很多器件在微纳尺寸下展现出很多与大块材料不同的性质，而这些性质中有很多具有很强的应用前景，这推动了微纳器件的加工方法的提高与性质的研究。 本文的第一章与第二章简单介绍了常见的纳米加工方法，包括电子束光刻（EBL）、微纳自组装法及纳米压印技术。通过分析各种加工方法的优劣，介绍了纳米压印技术的优势：它可以在保证加工精度较高同时又能降低其生产成本，而这两个优点为纳米压印的工业化做了很好的铺垫。在第二章中，通过对常见的三种纳米压印技术做出分析，并结合现有的设备，对纳米压印技术进行了相应的改进，并详细的介绍了纳米压印的各个加工步骤及需要注意的地方。 本文的第三章与第四章，是利...; ABSTRACT With the progress of science and technology, many devices in micro and nano size show a lot of different properties with bulk materials, and these fascinating properties promote the micro / nano fabrication method and the improvement of the properties. The first and the second chapters of this paper briefly introduce the common fabrication methods, including electron beam lithography (E...; 学位：工程硕士; 院系专业：物理科学与技术学院_工程硕士(电子与通信工程); 学号：33120131152836 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=56453 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/134330]  |
| 专题 | 物理技术－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 白彦强. 基于紫外纳米软压印工艺的陷光结构研究, Light Trapping Structures Based On UV Soft Nanoimprint Lithography[D]. 2016, 2016. |
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