| 题名 | 磁控溅射薄膜的层间扩散及表面偏析现象研究; Research of interlayer diffusion and surface segregation phenomenon of magnetron sputtered film |
| 作者 | 孔帆 |
| 答辩日期 | 2014 ; 2013 |
| 导师 | 刘兴军 |
| 关键词 | 磁控溅射 薄膜 热处理 矫顽力 magnetron sputtering film annealing coercivity |
| 英文摘要 | 磁控溅射自20世纪70年代诞生以来，因较高的沉积率和成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一，被广泛应用于集成电路制造、特殊功能材料涂层及材料改性等诸多领域。在薄膜扩散方面，目前被广泛研究的是理论计算扩散动力学，其主要计算扩散系数、表面激活能等参数对表面偏析现象的影响，但是该计算由于扩散偏析对薄膜表面改性实验数据的缺乏，故表面偏析现象的机理仍不明确。本文用控制变量法，详细研究了膜厚、热处理时间和热处理温度对薄膜扩散偏析现象及磁学性能的影响。本论文的主要研究结果如下： （1）用磁控溅射法，制备单层膜体系（薄膜/基底）Cu/Ni、Ni/Cu、Co/Ni、Ni/Co，研究了膜厚、热处理时间对扩散偏析的...; Magnetron sputtering is one of the important means of thin film preparation due to the higher deposition rate and the quality of the film since the 1970s. It is widely used in integrated circuit manufacturing, and special functional materials coating and material modification, and many other areas. On the field of film diffusion, the theoretical calculation of diffusion dynamics data is widely stu...; 学位：工学硕士; 院系专业：材料学院_材料工程; 学号：20720101150044 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=42160 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/75081]  |
| 专题 | 材料学院－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孔帆. 磁控溅射薄膜的层间扩散及表面偏析现象研究, Research of interlayer diffusion and surface segregation phenomenon of magnetron sputtered film[D]. 2014, 2013. |
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