保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷

CORC > 深圳大学

	保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷
	许桂雯 ; 欧阳征标
	2012-04-27 ; 2012-04-27
会议名称	中国广东深圳 2007年中国青年光学学术研讨会
关键词	光子晶体光子禁带缺陷禁带分裂光学厚度允许偏离值
中文摘要	利用光学传输矩阵法研究了10种一维缺陷态光子晶体。研究发现,介质层的光学厚度离理论值的偏移量小于3%时,光子禁带不会发生分裂。缺陷层的位置越靠近光子晶体中央,光子禁带越容易分裂；衬底的引入、机械摩擦导致的外层介质的磨损等都不会导致光子禁带分裂。基本上来说, 当高低折射率介质光学厚度比(R)小于0．66时,高折射率介质层厚度的允许偏移量(允许 d)比较大, 而低折射率介质层厚度的允许 d 值比较小；当 R 大于1．13时,低折射率介质层厚度的允许 d 值比较大,而高折射率介质层厚度的允许 d 值比较小。中心缺陷为低折射率介质、两边对称的结构(结构三) 所允许 d 的绝对值最大。总体上看,当 R＞1．5时,允许 d 值比较大,对制作工艺的要求比较低。
会议录	http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=SHFA200712001014&dbname=CPFD2008
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.calis.edu.cn/hdl/244041/2172]
专题	深圳大学
推荐引用方式 GB/T 7714	许桂雯,欧阳征标. 保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷[C]. 见:中国广东深圳 2007年中国青年光学学术研讨会.