离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究; Preparation of high power laser films based on ion beam assisted deposition
张大伟 ; 贺洪波 ; 邵建达 ; 范正修
刊名激光技术
2008
卷号32期号:1页码:57
ISSN号1001-3806
其他题名Preparation of high power laser films based on ion beam assisted deposition
中文摘要综述了离子束辅助沉积技术在高功率激光薄膜制备中的应用研究进展。指出该技术在制备高激光损伤阈值的薄膜中存在的问题,即出现过高的堆积密度,会给薄膜带来杂质缺陷、化学计量比缺陷、损伤缺陷、晶界缺陷,制备薄膜的残余应力存在着压应力增加的趋势,会改变薄膜的晶体结构等。并指出了该研究领域的研究方向。
学科主题光学薄膜
语种中文
公开日期2009-09-22
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4658]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
张大伟,贺洪波,邵建达,等. 离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究, Preparation of high power laser films based on ion beam assisted deposition[J]. 激光技术,2008,32(1):57, 60.
APA 张大伟,贺洪波,邵建达,&范正修.(2008).离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究.激光技术,32(1),57.
MLA 张大伟,et al."离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究".激光技术 32.1(2008):57.
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